铁钝化多孔硅紫外辐照下的发光稳定性研究

摘要

用水热腐蚀法制备出了红光发射(～2.0 eV)的铁钝化多孔硅.在240 nm紫外光持续辐照下,样品的红光强度迅速增强～10%后趋于稳定.傅立叶红外变换光谱分析结果显示样品中有强的Si-O-Si和Si-O-H吸收,同时存在氧化的硅烷基团(O3-xSix)Si-H(x=1,2,3).量子限制-发光中心模型(QCLC)以及非桥氧空穴缺陷(NBOHC)被用于解释强的稳定的红光辐射.