纳米SiO2粉体的制备与研究

摘要

纳米SiO2粉体的制备是以硅酸钠和盐酸为原料,添加适宜的稳定剂(非离子表面活性剂)和分散剂,在适宜的pH值和温度下,采用化学沉淀法合成.要得到性能优良的纳米SiO2粉体,最佳工艺条件为:温度20～40℃,pH6,反应液质量浓度ρ1=20g/L,ρ2=1.20g/L,反应时间15min.结果表明:制备的纳米SiO2粒径为30～50nm,比表面积大、分散性好、质量优良、可达到产业化的生产.