脉冲激光沉积法制备氧化铋薄膜及其电化学性质研究

摘要

首次采用355nm脉冲激光沉积在不锈钢基片上制备了氧化铋薄膜.X 射线衍射(XRD)测试表明在基片温度为300℃,沉积时间为0.5h制备得到的Bi2O3薄膜具有四方结构,SEM和Raman光谱测定对该Bi2O3薄膜的表面形貌和锂化前后的结构进行了表征,结果表明薄膜由小于100nm针状晶粒组成,锂化后的产物可能是LixBi2O3.此外,由电位阶跃法测定了上述Bi2O3薄膜电极的锂离子扩散系数.电化学测定表明,上述Bi2O3薄膜具有充放电循环性能.在电压范围为0.70～3.5V,该氧化铋薄膜在充放电速率为2C时的比容量大约为100mAh/g,并且保持经100次以上充放电循环而没有明显的衰减.