大平面板材抛光均匀性优化研究

摘要

本文分析了大平面机械抛光运动过程,以Preston假设为基础,建立了大平面机械抛光均匀性的仿真模型,研究工艺参数对磨抛均匀性和效率的影响规律.发现在磨头转速确定的情况下,板材进给速度是决定磨抛均匀性和效率的主要因素,并获得了在不同进给速率下的最优工艺参数组合.进一步采用科达SML系列连续磨机对人造石板材进行抛光实验,研究抛光后板材的光泽度分布规律.