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公开/公告号CN113638036A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-11-12
原文格式PDF
申请/专利权人 南京航空航天大学;
申请/专利号CN202110936194.6
发明设计人 苏宏华;周传强;张钊;丁文锋;陈燕;傅玉灿;徐九华;
申请日2021-08-16
分类号C25F7/00(20060101);C25F3/16(20060101);C25F7/02(20060101);
代理机构32200 南京经纬专利商标代理有限公司;
代理人曹翠珍
地址 210016 江苏省南京市御道街29号
入库时间 2023-06-19 13:15:27
机译: 湿式抛光法,沉积镀敷法,工件抛光法,工件缓冲装置,桶抛光装置,工件的表面处理方法,工件支撑单元和用于桶抛光装置的抛光介质
机译: 用于抛光工件的抛光垫和化学机械抛光设备,以及使用该化学机械抛光设备抛光工件的方法
机译: 用于抛光工件的抛光垫,化学机械抛光设备以及使用化学机械抛光设备对工件进行抛光的方法
机译:使用简单的混合磁性抛光材料进行磁性工件材料的磁性抛光-R槽内表面局部抛光方法及其抛光特性的建议
机译:等离子辅助抛光中等离子氧化和磨料抛光工艺的优化,可实现4H-SiC的高效平面化
机译:磁性抛光材料磁性型缩小磁力抛光 - 振动式偏抛光方法提案及抛光特性
机译:用于大非球面λ百倍计量的非干涉式非接触式设备,在研磨和抛光过程中
机译:研究磷酸基电解质中的铜电抛光及其在ULSI铜晶圆平面化中的应用。
机译:一种体外研究可以使用两种抛光系统比较玻璃和席位抛光牙科整体氧化锆的表面粗糙度
机译:在国内设备中进行非接触式电导检测,通过毛细管电泳同时测定阳离子,确定同一种方法,包括用于检测阳离子的电解质,测定电解质,电解质,电化学,电化学,电化学,电化学,电化学,电化学
机译:化学机械抛光在表面微加工设备平面化中的应用