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IidaM; 唐源;
不详;
砷化镓; 四氟化碳; 氟化; 等离子体;
机译:低温加热对CF4等离子体暴露的PHEMT AlGaAs / InGaAs结构中缺陷形成和演变的影响
机译:使用大气压非平衡等离子体将CF4氟化到Cu表面上,用无铅焊料进行无助焊剂焊接
机译:垂直排列的碳纳米管的氟化:从CF4等离子体化学到表面功能化
机译:CF4和CH4 / CF4等离子体磁场对PET表面改性的影响
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:低压CF4等离子体对聚二甲基硅氧烷表面进行氟化-物理化学和防污性能
机译:用氩(ar),四氟化碳(CF4)和六氟化硫(sF6)混合物反应离子刻蚀钛酸锶钡薄膜的研究
机译:CF4等离子体在循环流化床反应器中对高分子细粉进行HDPE CF4表面处理
机译:CF4 HDPE流化床反应器中CH4等离子体对HDPE表面进行改性的方法
机译:产生低温等离子体的方法,利用该低温等离子体对液体,粉末和固体材料进行等离子体改性的方法以及实施这些方法的装置
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