多层Al/Ti纳米含能桥膜的电爆性能研究

摘要

利用磁控溅射法制备了不同调制周期的多层Al/Ti纳米含能桥膜,并在电容放电激励下对其电爆性能进行测试,Al/Ti纳米含能桥膜的爆发时间随着电压的增大而降低,而等离子体持续时间随着电压的增加而增大.高速摄影仪记录的Al/Ti纳米含能桥膜的电爆过程表明,在相同的激励电压下,Al/Ti纳米含能桥膜的电爆现象明显比Al桥膜和Ti桥膜剧烈,且伴随着高温粒子四处飞溅,飞溅高度约有4～6mm,同时Al/Ti纳米含能桥膜的电爆持续时间均长于Al桥膜和Ti桥膜的电爆持续时间,这与伏安特性曲线得出的结论一致.