罗门哈斯公司推出新的ACuPLANE铜阻挡层CMP解决方案

摘要

罗门哈斯电子材料公司（Rohm and Haas Electronic Materials）旗下的研磨技术事业部（CMP Technologies）是全球半导体行业化学机械研磨（CMP）技术领域的领导者和创新者。该部门目前面向高级Cu／low—k材料互连应用产品推出了ACuPLANE铜阻挡层CMP解决方案。ACuPLANE系统将罗门哈斯的EcoVision4000化学机械研磨垫和ACuPLANE5000系列研磨液结合起来，