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MOCVD系统中压力和压差控制技术研究

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摘要

介绍了压力和压差控制在MOCVD系统[1]中的作用,比较了两种不同的压力和压差控制技术的优缺点,解析了国际上此类设备中压力和压差控制有关技术特点,以及用国产质量流量控制器和压力、压差传感器为主要部件研制的压力、压差控制器,在ZnO生长的MOCVD设备中良好的效果.

著录项

来源
《电子工业专用设备》 |2004年第7期|66-68|共3页
作者
蒲勇; 江风益; 王慧;
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作者单位

南昌大学材料科学研究所,江西,南昌,330047;

南昌大学材料科学研究所,江西,南昌,330047;

南昌大学材料科学研究所,江西,南昌,330047;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TN304.055;
关键词
MOCVD; 压力; 压差; 控制技术;

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