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掩模版升降定位存取机构

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针对90 nm及以下线宽光刻设备对掩模版升降定位存取机构功能和性能的需求,确定了掩模版升降定位存取机构的基本构架,并对机构进行了设计.

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来源
《电子工业专用设备》 |2011年第6期|10-12,15|共4页
作者
马喜宝; 董同社;
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作者单位

上海微高精密机械工程有限公司;

上海201203;

上海微高精密机械工程有限公司;

上海201203;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类半导体器件制造工艺及设备;
关键词
掩模版;

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