应用材料公司推出存储器件先进图形生成解决方案

摘要

全球领先的半导体、平板显示和太阳能光伏行业精密材料工程解决方案供应商应用材料公司,日期宣布与三星电子有限公司及韩国领先的光刻去胶设备制造商PSK公司合作,开发出一款面向下一代N AND和DRAM存储器件的先进图形生成解决方案。这款全新解决方案包括两大部分——以应用材料公司的Producer XP Precision TM CVD*系统沉积出的Saphira TM APF*硬掩膜,以及利用PSK公司的OMNIS TM去胶机清除Saphira硬掩膜的工艺。