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袁卫华; 钟新华; 彭立波;
中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南 长沙 410111;
单晶圆; 注入机; 角度; 测量; 补偿;
机译:90 nm器件验证了单晶片大电流注入机用于高倾斜晕环注入的使用
机译:结合干湿单晶圆工艺剥离大剂量离子注入光刻胶
机译:干/湿混合单晶圆清洗设备:应用于大剂量离子注入光致抗蚀剂剥离
机译:单晶圆高能注入机中抗光刻胶除气的工艺稳定性
机译:微波退火对低能离子注入晶圆的影响。
机译:在自对准纳米图案有机晶体管中从弱注入转换为强注入
机译:使用单晶圆,单室干/湿混合系统剥离和清洗高剂量离子注入光刻胶
机译:在真空电弧离子注入机中用高电荷态离子进行高能注入
机译:具有补偿晶片切割角功能的离子注入机及使用该离子注入机的离子注入方法
机译:离子注入机和防止不良离子注入目标晶圆的方法
机译:离子注入器,离子注入器的角度测量装置和束发散测量装置
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