首页> 中文期刊> 《工程物理研究院科技年报》 >KDP晶体磁流变抛光过程中去除函数稳定性研究

KDP晶体磁流变抛光过程中去除函数稳定性研究

         

摘要

磷酸二氢钾(KDP)晶体已往激光惯性约束核聚变中获得广泛应用,但是KDP晶体本身具有质软、水溶性大、脆性高、对温度变化敏感等一系列不利于光学加工的特点,是公认难加工的光学元件之一。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号