首页> 中文期刊> 《电镀与环保》 >无限微元法求霍尔槽初级电流分布

无限微元法求霍尔槽初级电流分布

         

摘要

使用无限微元法对霍尔槽阴极初级电流分布进行了理论探讨,推导出霍尔槽阴极初级电流分布公式为:Dk=Im(A+Blg(Lsinθ+α)),公式所得结果能正确解释电镀生产中的一些因素对镀层质量的影响,并对非直流电镀具有一定的指导意义。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号