首页> 中文期刊>电镀与涂饰 >碳化钨−钴合金表面钽离子注入的研究

碳化钨−钴合金表面钽离子注入的研究

     

摘要

在真空和通入氮气两种气氛下,通过MEVVA(金属蒸汽真空弧)源离子注入,在WC–Co合金(YG8)表面制备了钽涂层.分别利用光学显微镜、X射线衍射仪(XRD)和电化学极化曲线测量技术对其表面形貌、相结构和耐蚀性进行了表征.结果发现:钽离子注入"修复"了基体表面的缺陷,使其变得平整光滑.在氮气气氛下进行离子注入,除了生成Ta2O5、Ta1.1O1.05和一些碳化物外,还有TaN0.43和W3N4两种氮化物新相.钽离子注入后,YG8合金在3.5%NaCl溶液中的腐蚀速率大幅降低,但随着钽离子注入剂量增大,耐蚀性下降.相比于真空注入环境,氮气氛围下Ta离子注入所得涂层的耐蚀性更好.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号