电子磁性材料Fe_3Si薄膜的研究进展

摘要

磁性Fe_3Si薄膜具有高饱和磁化强度、高磁导率、高自旋极化率等优越性,在巨磁阻方面和自旋电子器件中有着广泛应用前景。本文介绍了目前关于Fe_3Si薄膜制备的几种主要方法——分子束外延法、脉冲激光沉积法、离子束合成法、射频溅射法等。通过对国内外Fe_3Si薄膜发展现状的研究,分析了Fe_3Si薄膜的结构、性能及应用。