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CCD曝光工艺常见缺陷及解决办法

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摘要

CCD器件曝光过程中会产生各种缺陷,由此会对线宽和图形产生不良影响.文中针对这些缺陷分析了成因并找到相应的解决办法,形成严谨的工艺规范以达到消除缺陷的目的,同时使得工艺能力和成品率得到了显著提升.

著录项

来源
《电子科技》 |2014年第11期|160-162|共3页
作者
高建威; 向鹏飞; 邓涛; 杨修伟; 袁安波;
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作者单位

重庆光电技术研究所第1研究室,重庆400060;

重庆光电技术研究所第1研究室,重庆400060;

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重庆光电技术研究所第1研究室,重庆400060;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TP212.9;
关键词
CCD; 曝光; 缺陷; 图形;

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