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郑方志; 朱永伟; 朱楠楠; 王凯; 沈琦;
南京航空航天大学机电学院,江苏省精密与微细制造技术重点实验室,南京210016;
亲水性固结磨料; 蓝宝石晶片; 研磨; 去除率; 表面粗糙度;
机译:通过具有不同磨料粒径的十字图案抛光垫抛光蓝宝石晶片的磨料去除深度
机译:掺Nd3 +的胶体SiO2复合磨料:蓝宝石晶片的合成及其对化学机械抛光(CMP)性能的影响
机译:通过机械化学抛光用软硬混合磨料对蓝宝石晶片进行平面化加工的研究
机译:磨料粒度对蓝宝石晶片研磨均匀性影响的实验研究
机译:硅晶片的研磨:晶片形状模型及其应用。
机译:使用可购得的磨料的模拟椅旁研磨程序对氧化锆表面性能的影响
机译:利用软磨料砂轮(saGW)去除si晶片化学机械研磨(CmG)的材料去除机理
机译:研磨工艺优化
机译:加工半导体晶片边缘的方法,涉及使用具有小于第一颗粒尺寸的粒度的磨料的研磨工具,以及以比转速pf的研磨轮加工半导体晶片
机译:蓝宝石晶片搭接驱动器的磨料回收方法
机译:用于切割和/或分离的线锯,例如蓝宝石,其金属丝在纵向或横向覆盖有磨料层,并包含未被层覆盖的区域,其中层包含研磨材料
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