Bi_4Ti_3O_(12)铁电薄膜X射线光电子能谱研究

摘要

本文采用化学溶液沉积 (CSD)工艺在Si(10 0 )衬底上制备了Bi4 Ti3O12 铁电薄膜 ,这种薄膜的X射线衍射 (XRD)结果显示其具有较好的结晶性。运用X射线光电能谱仪 (XPS)对薄膜的结构进行了研究 ,分析结果表明 ,衬底中Si向镀在其上的Bi4 Ti3O12 膜层内扩散 ,影响扩散的主要因素是膜厚及退火温度。