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钟迪生;
辽宁大学物理系;
离子辅助淀积; 离子速淀积; 离子能量; 光学涂层;
机译:使用CF {sub} 4选择性淀积非晶氢化碳膜作为掩模,用于硅的反应离子刻蚀
机译:关于使用羰基钨化学汽相淀积工艺制备W涂层PFM和W管的提案和研究
机译:等离子辅助化学气相沉积工艺,用于在中等温度下在钛合金上沉积光滑的金刚石涂层
机译:DUV和MWIR中用于低损耗光学涂层的反应性离子辅助HfO2膜的表征
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:使用等离子和前体辅助仿生工艺在人造韧带上形成磷灰石涂层
机译:新型脉冲等离子体处理和涂层工艺:用于光学计算应用的多层结构。
机译:带状的汽相淀积衬底的工艺,该带具有一层阻挡氧化物透明的明矾气化的蒸发反应性明矾,并使反应气体进入用于汽相淀积的设备中。
机译:等离子体辅助集成电路膜的淀积-使用中性粒子,在单独的腔室中被微波激活的中性粒子和非激发反应气体等。
机译:用于用金属涂层涂覆衬底的等离子体涂覆工艺,尤其是等离子体辅助化学气相沉积工艺,包括将衬底暴露在反应室中以处理流过该室的气体
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