铁电铌酸锶钡薄膜的结构特性研究

摘要

采用溶胶 凝胶法在Si( 0 0 1 )基片上制备铁电铌酸锶钡薄膜 ,使用X射线衍射、摇摆曲线、扫描电子显微镜、喇曼散射光谱等测试手段研究薄膜的微结构与薄膜厚度之间的关系 ,制备的薄膜厚度可达到 5 μm 实验发现 ,随着薄膜厚度的增加 ,SBN60和SBN75薄膜在 ( 0 0 1 )方向的优先取向性越来越好 随着膜层的增加 ,处于底层的膜层能够起到缓冲层的作用 ,以逐渐改善薄膜与基片之间的晶格失配 。