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罗志强; 吴瑞华; 刘莉; 王世昌; 刘嘉禾;
北京有色金属研究总院;
热丝法; 非晶硅薄膜; 多晶硅薄膜; PECVD;
机译:用粗糙度演变描述比较不同淀积速率的硅薄膜在CVD工艺中的生长机理
机译:光化学汽相淀积和热线电池法低温生长硅膜中气相反应的比较
机译:Ga_xSn_(1-x)O薄膜的雾化学汽相淀积法特性评估
机译:热丝化学气相沉积法合成“新型”多晶硅薄膜的生长
机译:热丝化学气相沉积法在玻璃上沉积的聚四氟乙烯薄膜的摩擦特性。
机译:化学溶液沉积法在硅上制备大孔外延石英薄膜
机译:使用光谱椭偏法对si:H薄膜进行热丝CVD生长的实时表征:预印刷。
机译:从涂有钛和钴的薄双层薄膜的硅基底上通过化学气相沉积法生长碳纳米管包括在预先涂有双层膜的硅基底上使用热丝
机译:用热丝化学气相沉积法沉积可流动的含硅薄膜的方法
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