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王贤义; 李正芳;
中国科学院近代物理研究所;
溅射源; 绝缘法兰; 电离器; 离子源; 静电加速器;
机译:用铯溅射型离子源生产强负锂束
机译:沉积后退火温度对磁控溅射型负金属离子源制备的ITO薄膜光电性能的影响
机译:溅射型负金属离子源对沉积在聚碳酸酯基板上的ITO薄膜的AFM观察
机译:沉积退火温度对磁控溅射型负金属离子源制备的ITO薄膜光电性能的影响
机译:使用新型隐藏阳极离子源和运动控制的薄膜溅射沉积系统的开发
机译:光诱导抑制铯溅射离子源中的硫
机译:离子源建模及Cms高强度Cs-溅射离子源的改进性能
机译:利用改进的离子源的溅射方法和装置
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