位错对BBO晶体光学均匀性的影响

摘要

本文报道了BBO晶体中位错密度对光学均匀性的影响。样品的光学均匀性是利用W yko RTI 4100型干涉仪进行测量。采用侵蚀法观测BBO晶体{001}面的位错密度,在一定的侵蚀条件下,观察到BBO晶体{001}面上的位错露头为突起的正三方锥形,底边与X轴平行。在显微镜下测量出样品的蚀坑密度。实验证明,随着位错密度的增加BBO晶体的光学均匀性逐渐变差。