首页> 中国专利> 一种阻挡碳化硅晶体边缘位错向内滑移的方法及其晶体

一种阻挡碳化硅晶体边缘位错向内滑移的方法及其晶体

摘要

本申请公开了一种阻挡碳化硅晶体边缘位错向内滑移的方法,包括:步骤一、构造热场:将坩埚置于保温罩中,再将坩埚连同保温罩置于长晶炉生长腔中,保温罩包括保温盖,保温盖的底部开设有与保温筒同轴的圆形凹槽,圆形凹槽的直径至少小于碳化硅籽晶直径1mm,且大于等于碳化硅籽晶直径的三分之二;步骤二、利用热场制备碳化硅晶体,以使得获得的碳化硅晶体的靠近边缘处形成与圆形凹槽的槽侧壁位置大致对应的环形形貌,所述环形形貌的宽度为100‑600微米。本申请提供的阻挡碳化硅晶体边缘位错向内滑移的方法,能够获得边缘位置具有一定宽度的环形形貌的碳化硅晶体,该环形形貌能够阻挡形貌外侧的边缘位错向其内侧滑移,提升碳化硅晶体中部区域的晶体质量。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-12

    授权

    发明专利权授予

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号