聚合物发光器件的旋涂膜厚模型研究

摘要

聚合物膜厚的控制对于优化聚合物发光器件的光电性能是至关重要的。应用最小二乘法,通过对中心复合设计实验数据的拟合,建立了旋涂法制备聚合物薄膜的膜厚回归模型。测试结果表明:利用该模型所得到的预测膜厚与旋涂的实测膜厚基本相符。膜厚模型的建立,对于旋涂工艺中旋涂条件的选择、薄膜厚度的控制以及器件性能的优化具有一定的实用价值。