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周乐平; 张明瑜; 黄启忠;
中南大学粉末冶金国家重点实验室;
CVD; SiC涂层; 组成成分; 沉积条件;
机译:沉积温度对模拟PWR条件下SiC_F / SiC复合材料CVD SiC涂层腐蚀行为的影响
机译:ZrCl4的浓度对AlCl3 / ZrCl4 / H-2 / CO2 / H2S工艺沉积的CVD生长的Al-Al2O3涂层的织构,形貌和生长速率的影响
机译:悬浮液组成对化学沉积复合四组分Ni-W-P-ZrO_2涂层的组成,形貌和结构的影响
机译:涂层沉积参数对CVD法在Ni-超合金中沉积的铝化涂层微观结构的影响
机译:研究硬质合金切削刀具刀片(硬质合金刀具,化学气相沉积)上化学气相沉积(CVD)金刚石涂层的附着力的机械和物理问题。
机译:通过电化学沉积沉积在钛植入物上的锶掺杂透钙磷石涂层的形貌组成和生物活性
机译:Co-Ni-MoxOy粉末的电沉积:第一部分。沉积条件对粉末成分和形貌的影响
机译:CVD钨和TaC涂层对siC(C)力学行为的影响
机译:耐NH3的CVD-SiC优异,耐NH3的CVD-SiC涂层材料优异以及CVD或MBE系统用工具
机译:CVD法沉积SiC膜的方法
机译:等离子CVD法在高聚物基体上形成SiC薄涂层及其装置
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