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刘永红; 刘水华; 阮迎澜; 江山; 方罗珍; 黄德修;
武汉华中理工大学光电子工程系;
邮电部武汉邮电科学院固体嚣件所;
相位掩膜; 光纤光栅; 近场光强分布;
机译:光掩膜制造中的掩膜成本和获利能力:实证分析
机译:光纤布拉格光栅相位掩膜衍射紫外光束能量密度分布的简单分析
机译:使用主成分分析进行光掩膜CD签名调查
机译:利用实验室制造的相位掩膜对3D彭罗斯类准光子晶体聚合物模板进行光刻制造。
机译:利用掩膜中的小泄漏将二阶攻击转变为一阶攻击并利用线性代码陪集改进旋转替换盒掩蔽
机译:利用COsmIC掩星反演电离层电子密度分布:从Gps / mET掩星数据分析几何和数学延迟对TEC反演的影响。
机译:带有标记的光掩膜,光掩膜的图案化方法以及利用该光掩膜制造半导体器件的方法
机译:制备光掩膜的光掩膜方法和使用光掩膜的图案制作方法
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