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张九如; 殷江;
江苏大学理学院;
南京大学物理系;
高介电常数栅介质材料; 脉冲激光淀积; 薄膜;
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机译:具有高介电常数电介质栅叠层的纳米级MOS器件的电学建模和仿真
机译:氧化ha薄膜作为用于IC应用的高介电常数材料的研究:其沉积和表征。
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机译:Zr / Hf掺杂栅介质和高介电常数金属氧化物薄膜的CVD形成的源试剂组成及其使用方法
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