氢和硼离子轰击可消除(001)面多晶金刚石膜的空位缺陷(英文)

摘要

在微波等离子体化学气相沉积金刚石膜时， 采用负偏压使氢和硼离子轰击金刚石膜表面。 发现单纯的氢离子的轰击会导致表面刻蚀，可使 (001)面颗粒尺寸增大。用扫描电镜（ SEM）和阴极 发射光谱（ CL）分析了硼离子掺杂后 [001]取向的金刚石膜表面，发现 CL中 A峰消失，表明薄膜中 位错密度降低。首次发现 CL谱中 741.5nm峰和 575nm到 625nm宽峰明显下降，表明在金刚石膜 中 ,中性空位和氮空位缺陷基本消失 ,利用小原子穿透理论解释了这个现象。