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程开富;
重庆光电技术研究所;
多晶硅膜; 氧沾污; 掺磷; 热壁; 低压; 化学汽相沉积;
机译:催化化学汽相淀积法形成高湿掺杂掺杂扩散电阻率氮化硅膜
机译:光化学汽相淀积和热线电池法低温生长硅膜中气相反应的比较
机译:碳的液体化学汽相淀积法II。动力学实验及传热传质分析
机译:SiH_4-O_2和TEOS化学在低压化学气相沉积SiO_2膜中硅和氧原子的排列:与热生长SiO_2膜的比较
机译:通过管状热壁低压化学气相沉积系统选择性外延生长硅锗。
机译:单晶上原子氧的电化学汽提铂:弥合气相和电化学氧化
机译:真空紫外直接激发型光化学汽相淀积法研究SIO2薄膜的低温生长
机译:沉积低应变LpCVD(低压,化学气相沉积)多晶硅
机译:用于电化学汽相淀积的原始材料汽化器,电化学汽相淀积装置和使用该装置的固态电解膜形成方法
机译:钌膜的化学气相沉积化学汽相淀积及其应用
机译:低压化学汽相淀积的自动关闭和吹扫气体清洁方法
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