首页> 中文期刊> 《低温物理学报》 >高临界电流密度K_3C_(60)超导单晶薄膜的合成

高临界电流密度K_3C_(60)超导单晶薄膜的合成

摘要

我们在云母(001)面上合成高质量的K_3C_(?)单晶薄膜。在正常态下它表现出金属性的电阻一温度的依赖关系,且符合关系式p(T)=a+bT^2。单晶薄膜在22K附近具有很陡的超导转变,转变宽度(电阻值由90%到10%)小于700mK,零电阻温度为21K,连续直流测量出的临界电流密度高达50000A/cm^2。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号