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集成电路工艺模拟软件SSUPREM4的应用

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采用集成电路工艺模拟软件ＳＳＵＰＲＥＭ４模拟了氧化、扩散工艺，并同实验值进行了比较，模拟值和实验值的偏差在１０％以内。与集成电路器件模拟软件Ｓ－ＰＩＳＣＥＳ联用模拟了ＳＳＵＰＲＥＭ４的全工序，并把它应用于实际生产。结果表明ＳＳＵＰＲＥＭ４

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来源
《半导体技术》 |1999年第6期|29-32|共5页
作者
朱兆旻; 阮刚; 冒慧敏; 庞海舟;
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作者单位

复旦大学电子工程系;

上海先进半导体制造有限公司;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类制造工艺 ;
关键词
集成电路; SSUPREM4; 工艺模拟软件;

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