高气压脉冲DBD等离子体聚合羧基功能薄膜的研究

摘要

在40 kHz脉冲介质阻挡放电(DBD)产生等离子体,以丙烯酸为单体,在2000 Pa的高气压下,聚合带羧基的功能薄膜。采用接触角测试仪(WCA)、傅里叶红外光谱仪(FTIR)、X光电子能谱(XPS)研究了占空比对沉积薄膜化学结构、表面性能的影响。实验得到,中频脉冲DBD放电在高气压下制备的薄膜官能团含量较高;结果同时表明薄膜的性能受脉冲放电占空比的影响较大,占空比越小,薄膜的化学结构与单体更相近,官能团密度越多,但薄膜的稳定性较差。