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林晶; 刘壮; 孙智慧; 高德;
哈尔滨商业大学;
磁控溅射; 陶瓷薄膜; 基体温度;
机译:基于ZrN的薄膜的摩擦学,物理力学和腐蚀性能取决于磁控溅射形成薄膜的工艺和温度参数
机译:ZrN基薄膜的摩擦学,物理和腐蚀性特性,取决于磁控溅射形成它们的工艺和温度参数
机译:基体温度对低碳钢磁控溅射镀镍中间层的氮化钛薄膜结构性能的影响
机译:磁控溅射法研究基体温度对Zn_xCd_(1-x)S薄膜生长的影响
机译:阳极氧化工艺控制参数对阳极氧化铝多孔膜力学性能的影响。
机译:工艺参数对阳极氧化铝膜结构的孔结构和厚度的影响
机译:磁控溅射制备氧氮化钽薄膜的性能:工艺参数的影响
机译:磁控溅射工艺参数对非晶碳薄膜电性能的影响
机译:AI-SI-MG合金(KPT-F&F-AL-1-2384)和工具(核心,浇口和型模模具)的开发和工艺参数(如外壳的预加热时间和温度),浇铸薄壁铝的浇铸参数通过投资铸造路线进行合金铸造零件。 AI-SI-MG合金(KPT-F&F-AL-1-2384)和工具(核心,浇口和型模模具)的开发和工艺参数(如外壳的预加热时间和温度),浇铸薄壁铝的浇铸参数通过投资铸造路线进行合金铸造零件。 AI-SI-MG合金(KPT-F&F-AL-1-2384)和工具(核心,浇口和型模模具)的开发和工艺参数(如外壳的预加热时间和温度),浇铸薄壁铝的浇铸参数通过投资铸造路线进行合金铸造零件。
机译:活塞壳体包括由轻金属合金制成的铸造基体,该铸造基体具有在运行表面的区域中通过脉冲磁控溅射工艺施加的抗磨和滑动层。
机译:在磁控溅射工艺中控制等离子体的工艺包括使用沿着磁控管轨道布置的屏幕局部影响等离子体
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