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朱杰; 张志萌; 马爽;
同济大学物理科学与工程学院;
亚表面; YCOB; 抛光; CMP;
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机译:高科技零件的超精密抛光技术-应力消除和超精密精加工-CMP抛光垫的表面状况分析和抛光特性
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机译:精密抛光动力学:工艺振动对抛光结果的影响。
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