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冯煜东; 王艺; 王志民; 速小梅; 赵慨;
兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室;
兰州;
730000 兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室;
730000;
磁控溅射; 质量流量; 流导; 抽速; 分子流; 粘滞流;
机译:SiO2介质靶射频磁控溅射中双环形腐蚀图形的形成和均匀性研究
机译:通过从季陶陶瓷靶法制造的RF磁控溅射制造的Cu(In,Ga)Se-2层的横向均匀性
机译:辉光放电表面浮雕靶的溅射不均匀性的离子和快速原子贡献的计算1
机译:具有增强的晶圆均匀性,寿命均匀性和晶圆可缩放性的多靶溅射系统
机译:研究直接剪切作用下岩石不连续性的不均匀性退化和空隙空间形态的演变。
机译:高速准连续镀膜机造粒的可行性研究
机译:无气高压下高电流放电不均匀性的平滑 功率脉冲磁控溅射
机译:射频磁控溅射过程中变换对(1-x)Li4siO4:(x)Li3pO4靶射出的原子和分子种类影响的等离子体诊断研究
机译:带有移动台的溅射室,可产生靶的轨道运动以提高均匀性
机译:在连续过程中通过溅射用导电且透明的金属氧化物层涂覆衬底,包括在涂覆室中的涂覆室中用管状金属氧化物靶移动和涂覆衬底
机译:磁控溅射镀膜机及其提高磁场均匀性的方法
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