硼碳氮薄膜的脉冲激光沉积及其光学性能

摘要

采用脉冲激光沉积技术,在Si（100）和石英基片上制备了硼碳氮薄膜（BCN）。利用X射线衍射（XRD）,傅里叶变换红外光谱（FTIR）、X射线光电子能谱（XPS）和紫外-可见分光光度计对BCN薄膜进行了表征,研究了激光能量密度对BCN薄膜沉积速率、组分、结构和光学性能的影响。FTIR和XPS分析结果表明BCN薄膜中包含B-C,C-N和N-B化学键,说明实现了B、C和N的原子级化合。当激光能量密度从1 J/cm2增加到6 J/cm2时,BCN薄膜的沉积速率加快,N含量由7.2%增加到15%,光学禁带宽度（Eg）从4.02 eV降低到3.82 eV,Eg的降低主要与BCN薄膜中碳含量的增加有关。