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高洁; 姚威振; 杨少延; 魏洁; 李成明; 魏鸿源;
中国科学院半导体研究所,半导体材料科学重点实验室,北京100083;
中国科学院大学材料与光电研究中心,北京100049;
南京佑天金属科技有限公司,南京211164;
氮化锆; 反应磁控溅射; 单一取向; 表面形貌; 柱状生长; 光学性能;
机译:厚度对磁控溅射制备ZnO薄膜的光学,结构和生长机理的影响
机译:高温磁控溅射在硅,石英和蓝宝石基板上生长的高质量VO2薄膜的合成,结构和光学性能:通过过渡温度的性能
机译:掺铝ZnO靶形成负氧离子的机理及低温离轴直流磁控溅射薄膜的电学和光学性能的改进
机译:真空和锌蒸气的生长后退火对磁控溅射GaMgZnO薄膜的电学和光学性能的影响
机译:射频磁控溅射砷化镓薄膜的光学表征。
机译:磁控溅射沉积SrTiO3薄膜的纳米结构和光学性能研究
机译:RF磁控溅射生长的Cu掺杂ZnO薄膜的结构,光学和电性能:太阳能光催化的应用
机译:基于TiN,ZrN和HfN薄膜的透明热镜的光学特性
机译:活性直流磁控溅射法在石英基体上形成与高性能紫外波长区域相对应的氟化物光学薄膜的方法
机译:有源直流磁控溅射法制备高性能真空紫外波长范围的光学薄膜
机译:磁控溅射装置及生长金属薄膜的方法
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