一种高温超导YBaCuO薄膜图形形成方法

摘要

本文提出了一种高温超导薄膜图形形成的方法。该方法融多层光刻工艺和Ar^+铣技术于一体,用该方法刻蚀出的高T_cYBaCuO薄膜图形的T_c、J_e与刻蚀前薄膜的T_C、J_e相比,无明显下降。实验中使用的YBaCuO薄膜是在ZrO_2(100)基片上采用对靶偏轴DC磁控溅射原位生长得到的。作为尝试,用该方法成功地制备出YBaCuO Josephson薄膜微桥结。结的T_c为86K。在液氮温度下,经36.5GHz、90GHz微波辐照分别观察到清晰的多个微波感应台阶。结的临界电流和正常态电阻的乘积I_cR为1.5mV左右。