浅沟槽双光电探测器

摘要

提出一种新型光电探测器,采用浅沟槽隔离工艺,在双光电探测器基础上制作而成。通过使用Silvaco公司的器件模拟软件Atlas进行器件模拟,分析了浅沟槽对探测器关键参数的影响,包括响应度和响应速度。结果表明,浅沟槽双光电探测器具有良好的特性,响应度和响应速度都优于双光电探测器。