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钟雨乐; 刘涛; 李京娜;
暨南大学电子工程系;
广东省电力工业学校;
H^+-ISFET; PECVD; 淀积; SiNxHy; 氢离子敏场效应晶体管;
机译:关于使用羰基钨化学汽相淀积工艺制备W涂层PFM和W管的提案和研究
机译:用粗糙度演变描述比较不同淀积速率的硅薄膜在CVD工艺中的生长机理
机译:Ga_xSn_(1-x)O薄膜的雾化学汽相淀积法特性评估
机译:CoO_x在CaTaO_2N薄膜上的光淀积以及晶面取向的控制及其对光电极特性的影响
机译:二面,四元数和阿贝尔群在其顶点和/或边上传递性作用的图形以及在张量积上的应用
机译:P21:探讨强积健里法对重症胸腺切除术MG患者的价值
机译:真空紫外直接激发型光化学汽相淀积法研究SIO2薄膜的低温生长
机译:应用于吸积盘的sImD机器上的三维辐射传输计算
机译:带状的汽相淀积衬底的工艺,该带具有一层阻挡氧化物透明的明矾气化的蒸发反应性明矾,并使反应气体进入用于汽相淀积的设备中。
机译:激光淀积焊接工艺,改制的零件及其在石油,天然气和石油化学应用中的用途
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