大面积低损耗薄膜衬底太赫兹偏振片

摘要

以硬质硅片作为承载体，在其表面合成性质可控的聚合物薄膜，利用光刻工艺制作微结构，将薄膜与硅片剥离，获得在柔性衬底上大面积均匀的太赫兹器件．以聚酰亚胺薄膜为衬底的太赫兹偏振片的测试结果表明：在o．1THz处，器件的偏振消光比可达到50dB，在0．1～2THz范围内偏振方向的平均透过率高达89．78％，偏振度大于99．84％，在42．3mm直径的区域内，其偏振均匀性好，达到实用化要求．