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宋朝瑞; 俞跃辉; 邹世昌; 郑志宏;
中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室;
AlN薄膜; 离子束增强沉积(IBED); 电绝缘性能;
机译:超声气溶胶沉积电绝缘氧化铝薄膜的鲁棒机械性能
机译:通过双离子束沉积合成化合物薄膜。二。铝氮薄膜的性能
机译:氮含量对离子束辅助化学气相沉积制备非晶态氢化碳薄膜力学性能和摩擦学性能的影响
机译:离子束溅射沉积氮含量的原位控制氮含量及对SiN {Sub} X薄膜Pl性能的影响
机译:通过金属有机化学气相沉积法生长结晶氧化铝和氮氧化钛薄膜。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:离子束辅助沉积碳氮薄膜的结构与性能
机译:离子束辅助脉冲激光沉积(预印)氧化铝薄膜的化学计量和表征
机译:改善离子束溅射系统中离子束沉积薄膜性能的方法和装置
机译:具有增强的电绝缘性能和表面性能的薄型电容器的双轴取向聚酯薄膜
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