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阳生红; 莫党;
中山大学物理系;
椭圆偏振光谱; 离子注入; 半导体; 硅损伤;
机译:椭偏和反向散射光谱法测量离子注入引起的硅损伤的剂量依赖性
机译:椭偏法测定离子注入硅层的损伤轮廓
机译:钴离子注入硅表面的光谱椭偏
机译:从红外到紫外线的光伏应用中薄膜Si:H的光谱椭偏研究
机译:自交联壳聚糖/藻酸盐的结构研究原位QCM-D和光谱法的二醛多层膜椭偏仪
机译:离子注入引起的特殊损伤分布通过光谱椭偏仪在结晶和弛豫(退火)非晶硅中确定
机译:光谱椭偏仪和X射线光电子能谱研究si离子注入生成的非晶硅的退火行为
机译:旋转元件光谱椭偏仪及旋转元件光谱椭偏仪的测量精度预测方法,执行该记录仪的记录介质存储程序,以及存储在该程序中的计算机程序
机译:光谱椭偏仪,膜厚测量装置以及在该光谱椭偏仪中聚焦的方法
机译:光谱式椭偏仪,膜厚测量装置以及在光谱式椭偏仪中的聚焦方法
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