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陈治明; 高勇; 孙国胜; 蒲红斌; 杨庆堂;
陕西机械学院自动化工程系;
非晶碳化硅; 薄膜; 吸收光谱;
机译:限制诱导非晶硅碳化硅薄膜组成比的变化及光学性质的影响
机译:氢化非晶碳化硅薄膜的RF-PECVD沉积和光学性质
机译:Ag辅助光化学刻蚀形成的薄膜多孔非晶碳化硅的结构和光学性质
机译:组成对电子回旋共振等离子体化学气相沉积制备的氢化非晶碳化硅薄膜微观结构和光学性质的影响。
机译:非晶锌-锡-氧薄膜和非晶铟-镓-氧薄膜的物理性质和局部结构。
机译:电沉积法制备纳米晶Cu2O薄膜的微观结构和光学性质
机译:热蒸发技术制备的Se-Te-Ag系非晶薄膜的光学性质
机译:添加到阅览室阅读软件下载与<<辉光放电分解制备离子镀和氢化非晶硼薄膜制备氢化非晶硅薄膜及其表征>>相似的文献。最终报告,1980年4月1日至1981年5月31日
机译:包含非晶硅氧化物粘合剂的MGF2光学薄膜,具有相同光学器件的光学膜以及制备这种MGF2光学薄膜的方法
机译:包括非晶硅氧化物粘合剂的MGF2光学薄膜,由其提供的光学元件以及制备MGF2光学薄膜的方法
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