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张伟;
《半导体技术》通讯员;
SEZ公司; 技术节点; 单晶圆; 湿法处理; 采访; 工艺过程; 半导体行业; 湿式处理;
机译:实现AT开发的搭载了独创技术的单晶圆清洗装置封闭式清洗装置,能够将旋转湿法处理与高精度气体控制相结合并与干燥装置相结合
机译:成立了NTT和其他工业集团研究光通信技术的日本电报电话公司(NTT,东京千代田区),英特尔,索尼公司(东京都港区)是三个新的工业集团。建立。促进利用光电子融合技术的光子相关技术的研究和开发,并致力于建立可支持超高容量通信的光网络技术。 3-3处理领域美国Micron Technology在收购了国内主要DRAM公司Elpida Memory之后取得了巨大飞跃。 2017年,我们邀请了Sanjay联合创始人Sanjay Mehrotra。管理系统也进行了改进,我们推出了完全脱胎换骨的“新Micron”。在旧金山举行的私人活动“ Mlicron Insight 2019”(10月24日举行)上,有关公司未来愿景的信息四处散布。
机译:在单晶圆清洗设备市场中,经过批量处理技术培训的优势在于:新的开发基地“过程技术中心”赢得了
机译:单晶圆湿法处理中的液体分配旋转晶圆上的表面电荷
机译:基于采用印刷电路技术的Pierrot单元的新的圆偏振选择性表面概念。
机译:影响圆线虫类固醇幼虫恢复的因素:一种新的改良的福尔马林-醚浓缩技术用于圆线虫病的诊断方法
机译:Bede推出了用于大型晶圆的X射线工具新系列
机译:单晶圆16点16mHz FFT(快速傅立叶变换)处理器
机译:采用湿法刻蚀从具有平行侧壁和圆边的单晶硅基质制造胞外电极的方法,该方法可与CMOS技术集成
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