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戴永胜;
南京电子器件研究所;
集成电路; 芯片; 离子刻蚀; 俄歇; 能谱;
机译:核/壳界面对单量子点光谱分析俄歇复合的影响
机译:间隙内金属磁头中金属/铁氧体界面层的俄歇谱分析
机译:Na2Ti3O7钠离子电池电极中固体电解质界面的组成和演变:XPS和俄歇参数分析
机译:熔融熔体中阳极氧化膜的俄歇谱分析
机译:惰性气体离子对镁,铝和硅产生的俄歇光谱。
机译:利用红外光谱分析高压下离子液体/ Al2O3和离子液体/云母混合物的界面结构
机译:走向石墨烯远程等离子体界面生长和俄歇光谱模拟
机译:用俄歇光谱,离子微探针质谱分析和光致发光测定Ga(1-x)al(x)as中的al
机译:俄歇分析样品架,用于分析相反裂缝的晶界和使用该支架的俄歇分析方法
机译:用于俄歇光谱分析的晶界边界破裂样品的制备
机译:俄歇绝缘特性样本的分析方式为零
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