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王凤蕊; 郑直; 刘红婕; 黄进; 周信达; 蒋晓东; 吴卫东; 郑万国;
中国工程物理研究院激光聚变研究中心;
HF酸刻蚀; 熔石英; 亚表面划痕; 损伤特性;
机译:基于HF的刻蚀工艺可提高熔融石英光学表面的抗激光损伤性能
机译:纳米划痕与HF湿法刻蚀在Pyrex 7740玻璃表面上进行无掩模图案加工
机译:HF / HNO 3 sub>和KOH溶液中的深湿蚀刻对351 nm熔融石英光学器件的抗激光损伤性和表面质量的影响
机译:超声辅助HF酸刻蚀工艺参数对熔融石英表面质量和激光损伤阈值的影响
机译:非玻璃基底和熔融石英微透镜阵列上随机抗反射结构表面的光学性能
机译:作者更正:理解湿法刻蚀对表面划痕抗损伤性的影响
机译:通过HF蚀刻技术测量熔融石英粉表面的亚表面损伤
机译:湿法刻蚀处理对激光诱导熔融石英表面损伤的影响
机译:具有结构化表面的玻璃基板,该结构化表面具有预定比率的高度到宽度,以提供抗眩光性能并增加对划痕的抗性
机译:具有改善的抗划痕和抗划痕性能的可固化粉末涂料组合物及其使用方法
机译:提供抗划痕和抗划痕性能增强的涂料组合物以及使用该涂料组合物的方法。
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