在石墨基体上脉冲电镀TiB_2镀层

摘要

采用KF KCl K2 TiF6 KBF4 和LiF KF NaF K2 TiF6 KBF4 熔盐体系 ,利用直流和脉冲电源在石墨基体上制备了TiB2 镀层。采用金相显微镜观察了镀层的厚度 ,用X射线衍射分析了镀层的组成 ,用扫描电镜观察了镀层的表面形貌。实验结果表明 :在LiF KF NaF K2 TiF6 KBF4 熔盐体系 ,当K2 TiF6 ∶KBF4 为 1∶4(摩尔比 ) ,脉冲电流幅度为 0 .45A·cm- 2 ,脉冲宽度为 85ms,脉冲间隔为 1 7ms时 ,得到的镀层致密、无裂纹、与基体的结合力很好、有金属光泽、TiB2 的纯度高。